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      1. 光刻工藝化學品
        光刻工藝化學品工藝介紹

        光刻工藝為半導體制造中非常重要的一道程序,目的是用來定義圖案;結合了:光刻膠涂布,軟烤,洗邊,曝光,顯影等程序,這幾項程序都會交互影響,進而決定整個工藝的好壞與穩定性。除了設備上的因素,就是使用化學品的問題;日益和提供客戶一系列在每一個程序使用的化學品,除了化學品本身的質量保證,同時更提供技術與異常處理的咨詢。在光刻工藝的化學品上,符合客戶工藝改善與成本需求為我司的一貫目標。

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